Lam Research Corp. R
LAR0.DE
埃特拉
$197.64
美元
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最后更新时间：20 月 12 日星期五下午 35:XNUMX（美国东部时间）
关键数据点
可选
$201.85
日范围
$ 195.70 - $ 202.30
52 周范围
$ 89.53 - $ 216.60
市值
$ 246.81B
每股盈利
$4.21
平均音量
$ 1.89K
股息收益率
0.46%
音量
$905
收入
$ 18.44B
出价 * 尺寸
*
询问 * 尺寸
*
市盈率
46.95
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日范围
$ 195.70 - $ 202.30
52 周范围
$ 89.53 - $ 216.60
市值
$ 246.81B
每股盈利
$4.21
平均音量
$1,891
股息收益率
0.46%
音量
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Lam Research Corporation 是一家设计、制造、销售、翻新和维护半导体加工设备的公司，其产品广泛应用于美国、中国、韩国、台湾、日本、东南亚和欧洲的集成电路制造领域。公司提供 ALTUS 系统，用于沉积钨或钼金属化应用中的保形或选择性薄膜；SABRE 电化学沉积产品，用于铜互连过渡，并可实现铜镶嵌工艺；SPEED 高密度间隙填充等离子体化学气相沉积 (CVD) 产品；Striker 单晶圆原子层沉积产品，用于介质薄膜解决方案；以及 VECTOR 等离子体增强 CVD 产品。此外，公司还提供 Flex 介质蚀刻产品；Vantex 介质蚀刻系统，该系统采用射频技术，并借助设备智能解决方案实现可重复的晶圆间性能；Kiyo 导体蚀刻产品；Syndion 硅通孔蚀刻产品；以及 Versys 金属蚀刻产品，用于金属蚀刻工艺。此外，公司还提供 Coronus 斜面清洗产品，以提高芯片良率。以及 Da Vinci、DV-Prime、EOS 和 SP 系列产品，以满足各种晶圆清洗应用需求。此外，该公司还提供 Reliant 沉积、蚀刻和清洗产品；以及 Sense.i 平台产品，并提供客户服务、备件和升级服务。Lam Research Corporation 成立于 1980 年，总部位于加利福尼亚州弗里蒙特市。